Chemical Vapor Deposition: Precursors, Processes and Applications
von
buch.de-Verkaufsrang:
ISBN-10:
0-85404-465-5
ISBN-13:
978-0-85404-465-8
Erschienen:
01.2009
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Einband:
gebunden
Sonstiges:
Seitenzahl:
582
Gewicht:
1338 g
Erschienen bei:
Royal Soc Of Chemistry
Herausgeber: Michael L. Hitchman
Herausgeber: Anthony C. Jones
Kurzbeschreibung
A comprehensive overview on the key aspects of chemical vapour deposition processes written by practising CVD technologists who are also leading international experts.
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